电镀液的处理(三):难溶盐沉淀法

难溶盐沉淀法
此法是向镀液中加入适当的沉淀剂，使之与镀液中的有害杂质生成溶度积较小的难溶盐沉淀，然后过滤除去。
难溶盐沉淀法应用范围较广，它可以去除金属杂质，也可以去除有害的阴离子。例如：在氰化物镀液中，用硫化物去除铅杂质；用氢氧化钙或氢氧化钡去除na2c03：
pb2++s2-=pbs↓
na2c03+ca(oh)2=cac03↓+2 naoh
na2c03+ba(oh)2=bac03↓+2 naoh
在镀镍溶液中，用亚铁氰化钠去除铜杂质；用fe3+去除po43-杂质及用铅盐去除铬酸根杂质等：
2 cu2++na4[re(cn)6]=cu2[fe(cn)6]↓+4 na+
po43-+fe3+=fep04↓
cr024一+pb2-=pbcr04↓
在镀铬液中，用ag2 c03去除cl一及用bac03去除过量的s02．一：
2 hcl+ag2 c03=2 agcl↓+c02↑+h2 0
h2 s04+bac03=bas04↓+c02↑+h2 o
在氨三乙酸一氯化铵镀锌液中，用磷酸盐去除铁杂质等：
fe3++p034一=fep04↓
沉淀处理时，一般应将镀液加热，以加快沉淀反应速度和增大沉淀颗粒，使之易于过滤。
在加入沉淀剂时，若还能与溶液中的主金属离子生成沉淀的话，那么处理时应强烈搅拌，以促使沉淀剂与杂质作用。沉淀剂加入量不宜太多，以避免主盐损失较多而增加处理费用。


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