什么是PVD水镀,真空镀,溅镀、涂镀区别

什么是pvd,pvd和电镀有区别吗,水镀,真空镀,溅镀、涂镀区别
pvd技术是一种利用物理过程实现物资转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。通过此技术,可以将某些具有特殊性能(例如强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,从而使得母体具有更好的性能。 pvd基本方法包括真空蒸镀、溅镀和离子镀。
pvd技术具有镀膜层致密均匀、附着力强、镀性好、沉积速度快、处理温度低、可镀材料广泛等特点。因此,pvd技术被广泛用于表面处理工程领域,是较佳选择之一。另外,pvd本身的镀膜过程也是高温状态下,等离子场下的辉光反应,具有高净化处理过程。此外,pvd产品的主要原材料是钛金属,钛是金属中最具有人体皮肤亲和力的一种金属,使得pvd产品具有纯净的环保性能。
pvd技术可以生产出成千上万种颜色,甚至可以模仿自然界中的颜色。例如,金色系列有欧洲金(2n18及1n14)、日本金(gy01)、中国金(gy2n)等;咖啡系列有深咖、浅咖、中咖等;黑色系列有枪色、灰色、超黑色等;时尚系列有太空色、香槟色、卡其色等。因此,pvd技术在颜色选择上具有很大的灵活性和多样性。
与pvd技术不同,水镀技术是一种传统的电镀方法,是电化学过程的一种实现方式。它利用正负电极在电流的作用下在镀槽中进行,实现金属或非金属薄膜的沉积。水镀通常可以实现镀金、镀银、镀镍、镀铬、镀镉等表面镀层,但其电镀液具有较大的污染问题。水镀也包括电镀和化学镀两种类型,电镀适用于表面装饰,因为它提供高亮度的表面,而化学镀的表面较为晦暗,适用于防腐蚀涂层。
真空蒸镀、溅镀和离子镀是pvd技术的主要方法。其中,真空蒸镀法是在高真空条件下将金属加热熔融,使其蒸发并沉积在样品表面上,从而形成金属薄膜。溅镀通常指的是磁控溅镀,要求真空度达到1×10-3torr左右,并在塑料基材和金属靶材之间加上高压直流电,利用辉光放电将金属靶材的原子轰出,并沉积在塑料基材上。离子镀则是利用气体放电使气体或蒸发物质部分电离,并在气体离子或被蒸发物质离子的轰击下,将蒸发物质或其反应产品沉积在基片上的方法。
涂镀是一种利用快速电化学方法在金属工件表面局部沉积金属的技术,它在原理和本质上属于电化学加工的一种技术。在涂镀过程中,金属离子在电场的作用下,通过电镀液沉积到阴极上,形成一层薄膜。涂镀常用于镀铬、镀镍等应用领域。
综上所述,pvd技术提供了一种高科技含量、广泛应用的离子镀膜技术,具有众多优势,包括颜色可变、镀层致密均匀、附着力强、处理温度低等。相较于水镀和涂镀等传统技术,pvd技术广泛应用于高品质和高要求的产品和领域。


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